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memsstar接收多个MEMS腐蚀研发系统订单在亚洲;在韩国和印度销售第一memsstar®系统

利文斯顿,苏格兰2013年1月29日- memsstar有限,腐蚀和沉积设备的领先供应商和技术解决方案制造商半导体和微电子机械系统(MEMS)、今天宣布两个战略蚀刻系统订单赢得新的MEMS的客户在亚洲。其memsstar memsstar最近运送®在韩国和印度研发系统生产客户用于MEMS研发、代表第一memsstar腐蚀释放系统来自这些国家的订单。

研发工具被客户选中的汽相各向同性刻蚀硅MEMS结构来支持他们的新产品开发工作。除了适合研发应用,所有memsstar¹年代过程是可伸缩卷制造使用相同的加工技术,提供一个无缝的过程所有权的转移和更低的成本从研发到全规模生产。

³专有memsstar系统正在积极发展定位,提供关键的技术优势为客户从事微机电系统腐蚀释放和表面涂料、²说托尼•麦基memsstar总经理有限公司³我们先进的加工能力是最小化的关键过程的局限性,进而推动下一代的结构为我们的客户。这些新订单我们进入两个重要的MEMS市场在亚洲,反映我们的交付和支持的能力我们的技术在世界各地,²

memsstar¹年代专利过程兼容最广泛的广泛的金属特别是铝/合金和其他金属常用于MEMS镜子和电接触,而单一晶片处理平台保证很好的释放腐蚀重复性与广泛的过程窗口最大化性能和产量。memsstar¹年代干发布腐蚀过程使用氟化氢(HF),或氙二氟化物(XeF2),是独一无二的,因为它能够消除粘滞作用在一个单一的过程。

memsstar过程是稳定与良好的可重复性,可调腐蚀率、高均匀性和选择性。加上系统¹年代独特的端点的能力和热控制晶片在牺牲腐蚀过程中,memsstar系统确保每个晶片接收相同的腐蚀过程在一个宽的窗口过程。这些功能的组合允许客户实现高收益,高可重复的处理来降低制造成本。

更多地了解memsstar¹腐蚀释放和表面涂层处理功能,请访问memsstar半导体韩国2013年从1月30日到2月1日,他们将于4635年与SEMI-ENCE展览摊位。

关于memsstar有限

memsstar有限公司是一家成立于2003年,沉积和蚀刻设备和技术解决方案的领先供应商,制造商的半导体和微电子机械系统(MEMS)。公司¹年代再生腐蚀和沉积设备和专有技术解决方案支持欧洲半导体市场和全球MEMS市场。memsstar提供专有的工艺技术和设备来帮助开发和制造业的MEMS产业迎接挑战日益复杂和集成MEMS设备。ISO 9001认证,memsstar被公认为其再制造卓越、技术开发、工艺保证,以及广泛的服务功能,以支持其全方位的OEM和再生设备。

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