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EUV离目标更近了

这是今年SPIE Litho会议的主题之一:有什么替代方案极紫外光光刻?

这个问题是基于获得足够的EUV源功率来发挥作用的长期挫折。我们看到了挑战和目标去年但在这个案例中,讨论主要集中在Xtreme的激光辅助放电等离子体(LDP)方法上,这是一种老式放电等离子体(DPP)和激光产生等离子体(LPP)方法的混合。

上次我们看了在LDP方法中,Xtreme已经展示了30w,并在年底将达到50w。尽管这些都是很大的进步,但要实现每小时60片晶圆的目标(HVM -是的,它有自己的首字母缩写),还需要100瓦的功率。

因此,在SPIE上的许多讨论都是基于EUV何时-即使-将达到足够高的功率水平的问题。事实证明,Cymer正在做一项声明,他们要等到周四的论文发表后才能发表,那时会议已经进行了很久。虽然这并不是完全改变游戏规则的因素,但它确实可能抑制悲观情绪。

具体来说,他们宣布他们已经达到了50w,并且他们可以在今年投入生产。在实验室里,他们展示了158瓦的功率。

所以让我们快速看看他们是怎么做的,因为他们的技术与我们之前看到的自民党非常不同。

简单地说,LPP光源向锡液滴发射激光。锡的反应是在所需的EUV范围内辐射。技术在于提供可靠的锡液滴流,并尽可能多地从这一流中提取锡液滴。

Cymer说,在谈到效率时,LPP有许多方面的优势。可能最直接的是“收集器”。产生EUV辐射是一回事;把它收集起来并送到晶圆饼那里是另一回事。从逻辑上讲,进行这种收集的结构称为收集器。

对于LPP这样的装置,你可以很好地想象你有一个发光的液滴,发出球形辐射。因此,你可以创建一个收集器,或多或少地包围液滴,捕获大量发射的辐射,就像我们的视网膜收集光一样(没有反射和引导),并且有自己的盲点。

相比之下,DPP和LDP不是点源,因此它们最终需要更复杂的同心锥形结构的布置,根据Cymer的说法,这种结构不仅捕获的光更少,而且会干扰光,更难冷却。

LPP的挑战之一是液滴流,其中许多液滴甚至可能无法被激光击中。时间靠得太近,一个被击中的液滴可能会影响下一个液滴的反应。Cymer说,他们已经将液滴间隔得更远了,这样每一个液滴都不会受到干扰。它们以50-60千赫的速度运行,这意味着每个曝光场有数万个液滴被击中。

由于喷嘴堵塞,启动一直是一个问题;他们已经改进了这一点,但是,一旦开始,即使没有光产生,他们也会继续流下去。这样源代码就可以在不启动的情况下按需启动。当机器没有暴露晶圆时所消耗的液滴被收集并重复使用。一年的操作将消耗大约一升锡。

当锡被炸开的时候,它往往会去很多地方。就像收藏家一样。这就产生了对维护的担忧,因为锡屑会使收集器的清晰度变得模糊,降低其有效性。然而,没有人愿意经常把机器拆下来清理。

Cymer用来减少这种情况的方法之一是在舱内放置氢气。锡蒸气与之反应生成易挥发的锡氢化物。他们可以将这些锡抽出来,减少(虽然不能完全消除)锡最终沉积在其他地方的数量。

所有这些都很好,但还有一个问题,就是防止液滴中的全部能量被利用。液滴的直径为30微米,然而,由于扩散限制,激光束的宽度为100微米。是液滴的三倍大,这意味着激光中的大量能量被浪费了。

他们发现,他们可以应用激光预脉冲,在我看来,这就像相机里的红眼减少闪光灯。这个预脉冲的能量比主脉冲小,它会使液滴膨胀,使液滴的大小与激光束的大小相似。所以现在更多的激光束实际上与锡相互作用,使EUV产生更有效。

他们可以出货这2个nd2 .生成方法nd这个季度。现有的系统(其中五个已经交付晶圆厂)可以很容易地容纳预脉冲添加。

但是,提醒一下,所有这些只让我们完成了100瓦目标的一半。还需要更多,这就把我们带到了他们宣布的另一部分,他们在实验室里突破了100。要获得更高的功率,有三个组成部分。一种是产生更多的CO2动力——更强大的“激光”。第二是改进收集器。收集器的设计似乎在谈话中出现了很多;有很多焦点(可以这么说)是为了确保,在你如此努力地产生EUV辐射之后,它不会在没有被运送到晶圆的情况下泄漏。

最后,在开发出这种预脉冲技术后,他们计划通过改进该技术来提高功率输出。

然而,他们并没有说这种158w的技术何时能投入生产。因此,虽然我们离EUV成为可行的生产解决方案越来越近,但我们仍然不知道何时会实现。我的猜测是,在确定日期之前,人们不会把目光从替代方案上移开。

关于“EUV越来越接近击中目标”的一个想法

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