虽然最近的MEMS执行国会关注机电应用,偶尔MEMS加工技术强调了严格电气的目的,没有机械组件。

在一个例子中,ICEMOS谈论他们的合作与MEMS制造商欧姆龙使superjunction功率晶体管的新方法。

Superjunction晶体管克服R_在/分解权衡问题使用交替p和n条纹。在理论上,这些可以安排不同的方式,但是,根据ICEMOS,现在做的典型方法是水平,增长了一系列反兴奋剂的外延层。他们说,这是一个昂贵的做事的方式。

相反,他们已经垂直。他们这样做的方式是通过蚀刻战壕里使用冲动欧姆龙的工厂。然后使用一个侧壁植入——这几乎是垂直的,但轻轻倾斜到涂料的这些战壕。

尽管这使用这一过程,标准CMOS工厂,将非标准,他们说这仍然低于multi-epi做事的方式。他们还说,他们可以更小的设备。

你可以找到更多关于他们做什么PDF报告…

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